zeiss smt ag股份制改造後，資金有了保障，研發實力大增，產品更新換代加快，還增加了三條生產線，源源不斷的訂單保證了現金流和利潤，gca的短板、光刻機光學系統的供應也有了保障。

    一步先步步先！

    zeiss smt ag的光刻機光學系統技術要超過nikon還需要時間，蔡司海登海姆公司和蔡司耶拿公司正在商議合併事宜，一旦正式合併，一家世界級光學巨無霸將誕生。

    重生者預感nikon會率先研製成功8英寸晶圓和250nm製程工藝的光刻機，造成gca的股價下跌，gca隨後研製成功8英寸晶圓和250nm製程工藝的光刻機，憑藉不斷升級換代的磁懸浮式雙工作枱系統和蔡司公司供應的光刻機光學系統，引領行業發展，

    雙方你追我趕，一旦遭遇65nm製程工藝的瓶頸，nikon和gca的科學家都無能為力。

    凋刻東西，花樣要精細，刀尖就得鋒利，如何把光刻機193nm的光波再「磨」細？

    前世九十年代，採用的是193nm波長的乾式光刻技術，隨着光刻機的製程工藝不斷進步，nikon半導體設備公司率先攻克8英寸晶圓和350nm、250nm、180、130、100、90nm、65nm的製程工藝，引領行業發展的步伐，壟斷了高端光刻機的市場份額，但在65nm製程工藝上遇到了瓶頸，nikon科學家試驗了多種技術，攻關十多年，都無法突破這道擋在半導體產業的世界極難題。

    摩爾定律也遇到挑戰。

    nikon等日本光刻機科學家主張在前代技術的基礎上，研製f2激光器（波長157nm），走穩健發展的道路；新生的euv llc聯盟科學家則押注更加激進的極紫外光技術，用僅有十幾納米的極紫外光，刻10nm以下的晶片製程

    想法是好的，但研究新一代光刻機的難度巨大，隨着亞洲金融危機降臨，全球半導體產業陷入低迷，新一代光刻機的研製陷入停滯狀態。

    直到二零零七年，後起之秀asml採用台積電林工程師的技術方向，率先研製成功arfi準分子激光器和浸沒式光刻系統，突破了波長193nm的世界級光學難題，直接越過157nm波長的天塹，降至132nm波長，製造的新一代光刻機突破了65nm製程工藝，實現了45nm製程工藝，超越nikon高端光刻機，從nikon的手裏搶到inter、ibm、amd、hp、三星和台積電等所需高端光刻機的訂單。

    nikon從此開始走下坡路，隨着euv光刻機的問世，asml壟斷了全球高端光刻機市場。

    孫健私下與鄧國輝和錢富強交流，乾性光刻不能突破193nm的波長，能否採用濕性光刻？在透鏡和晶圓之間加入去離子水，改變折光度試試？濕性光刻需要重新設計特殊的透鏡

    重生者雖然只知道浸沒式光刻機的皮毛，但提前十多年指引光刻機行業發展的正確方向，有磁懸浮式雙工作枱系統問世的先例，鄧國輝和錢富強肯定不會懷疑方向性問題，有資金保障，研製成功就只剩下時間問題。

    到時，bsec率先研製成功arfi準分子激光器和浸沒式光學系統，就能在世界光刻機行業有話語權，實現彎道超車。

    gca步入正軌，發展前景看好，要錢有錢，高薪聘請，高端人才蜂擁而至，不需要重生者操心，指引方向就夠了。

    「孫健，你去忙吧！」

    劉悅也為孫健高興，有近800名員工的bsec如今還處於巨虧狀態，花錢如流水，要不是去年淘寶控股公司又增資3億元，bsec早就揭不開鍋了，作為總部人事部部長楊昌霞的接班人，每年跟隨孫健、李濤和楊昌霞等到分公司視察和指導工作，熟悉分公司的高級管理層和基本經營狀況。

    ------

    京城。

    「我代表公司，祝賀大家研製成功1um製程工藝的光學系統，公司拿出10萬元獎勵陳副院長，拿出40萬元獎勵研發團隊。」

    魏建國、鄧國輝、錢國培、陳偉長和歐陽明等陪同孫健接見了光刻機光學系統研究所的43名研發人員和9名技術工人。

    啪啪