大傢伙的內部發生的，而且鍍膜的時候對於無塵環境的要求極高，因此這個大傢伙有很大一部分都屬於高潔淨度的潔淨室甚至是真空環境。再加上工作腔在進行反應的時候，會產生極大的熱量，因此光是冷卻部分，也要佔據極大的空間。

    這個大傢伙主要有五個工作室組成的，這五個工作室中有兩個是工藝室，是專門用於給玻璃基板進行鍍膜反應的反應腔，還有一個是裝載腔，是用來裝載玻璃基板的；一個傳送腔，是用來把裝載腔的玻璃基板傳送到工藝室中進行鍍膜反應的；最後一個就是卸載腔，功能就是將反應完成的玻璃基板卸載出設備的。

    裝載腔裏面有二十個格子，裏面可以一次性盛放二十片基板，整個裝載腔是真空環境，一個真空泵和一個大氣羅茨泵在基板放好了，艙門關閉之後，可以將整個裝載腔內的空氣抽出。在裝載腔的外部有和腔室底部的波紋管相通的氮氣管道，是用來控制腔室內基板放置的高度的；還有排氣管道，是用來恢復大氣狀態的，另外還有皮拉尼真空計和B－A真空計。

    傳送腔，裏面的主要部件就是一個真空機械手，在外面還有兩個大氣機械手，這種機械手其實很簡單，由支架、碳素鋼叉和導軌組成的。支架上面有十層碳素鋼叉，為了保證基板的平穩，每層的碳素鋼叉有四根，這樣一個支架上面就是足足四十根碳素鋼叉。之所以採用了碳素鋼，就是為了增加支架的剛度，減少基板和叉子的下垂度，畢竟一片玻璃基板的重量也是很大的。

    至於最重要的工藝室，裏面的設計就更複雜了。一個工藝腔是由十個反應室和十個冷卻箱組成的，各自之間通過鉸鏈相互連接，具體的佈局就是一層冷卻箱一層反應室然後再一層冷卻箱，這樣可以保證充分的冷卻。反應室的門是由彈簧和鋁金屬板構成的，通過彈簧將鋁金屬板壓在腔上，保持關閉狀態，以減少工藝腔的泄漏率。

    十個反應室是平行並列的，因此可以同時進行四層膜的反應，而不會產生交叉污染。只不過，每個反應室內部的高度都不是很高，只有不到30毫米的高度，因此在裝卸基板的時候必須要小心，避免基板受到傷害。

    除了這些主要的腔室之外，這個大傢伙還集成了供氣系統、排氣系統、除害系統、水循環系統以及一些附件。總得來講，是一套比較複雜的設備。但這套設備對於加工精度的要求並不是那麼高，比起前段時間一機床給宏達電子加工的那台內存顆粒觸點處理機來，這套PECVD設備的加工精度要差的遠了。

    畢竟這玩意兒的主要作用是用來進行離子反應的，而不是和內存生產線中的內存顆粒觸點處理機那麼要求工作精度的，因此這套設備的加工工藝並不難。

    這套設備之所以能賣出天價來，主要就是裏面的核心反應室的設置，也就是工藝氣體進入到反應室之後的反應過程。參與離子反應的工藝氣體，根據不同的鍍膜需求，是要選用不同的工藝氣體的，矽烷、磷烷、氨氣、笑氣、氮氣、氫氣，每一種工藝氣體在反應室里的加溫溫度都是不一樣的，所產生的等離子狀態也是不一樣的，產生的鍍膜效果也是不一樣的。

    雖說從技術上來講這個過程在這套設備中是可控的，但只有徹底掌握了這套技術的人，才能夠將這個反應過程控制住。如果你吃不透這套技術的話，那麼你生產出來的設備就無法將這個過程可控。

    即便是小曰本現在已經獲得了專利授權，但他們造出來的設備要想達到可控狀態，還必須要經過調控，這種調控是有竅門的，你不失敗個幾百上千次，你絕對是掌握不住這裏面的竅門的。而李想偏偏就因為前世和劉軍的關係，知道了如何對PECVD設備中反應室的反應過程進行可控的竅門，因此李想才有把握讓小曰本乖乖的來買自個兒的設備。

    對於這一點，李想是毫不懷疑的，因為前世和劉軍聊天的時候，劉軍曾經給他講過這方面的事情。當時即便是應用於TFT－LCD工藝製程中的CVD設備的研發者——AKT公司，也是經過了好長時間的嘗試之後，才徹底掌控了這套技術，並掌握了其中的關鍵竅門。現在換成曰本的那些液晶面板生產商，他們的技術恐怕還不如AKT公司的技術人員呢！

    現在李想更關注的是，一機床這個接待自個兒的生產廠長還有那個總工能不能將這套圖紙成功的轉化成為真正的設備。

    事實上這套圖