東京半導體設備展有很多年歷史，今年因為新芯宣佈旗下的光刻機業務條線突破了40nm工藝製程，導致這次的東京半導體設備展格外引人注目。

    新芯這個名字在半導體行業內並不陌生，甚至頗有種大名鼎鼎的味道在內，因為這家企業和它的創始人周新一樣，迅速崛起後在業內佔據了重要的地位。

    台積電被它壓制的極其難受，arm的移動晶片架構成為主流新芯功不可沒，德州儀器、三星、英特爾這些老牌巨頭紛紛下注移動晶片同樣是因為新芯。

    因為新芯的地位和行業口碑，讓大家相信新芯確實突破了40nm工藝製程，尤其是友商們，他們更關注另外一件事。

    「新芯是如何做到的？」在東京半導體展的開幕式上，小松正志低聲問他旁邊的佐藤博人。

    小松正志是霓虹euva的執行董事，同時也是小松株式會社的會長，小松株式會社是光源製造商。

    在霓虹產經社的主導下，尼康、佳能、小松株式會社、東芝和三菱等等都是euva的成員，euva的全稱是極紫外光光刻開發協會，極紫外光就是13.5nm波長的光。

    因此新芯宣佈攻克40nm製程後，euva的成員們並沒有太大的危機感，因為他們一旦攻克了極紫外光，那麼從65nm製程一直到5nm都將暢通無阻。

    甚至站在euva，也就是協會的立場和小松株式會社的立場來說，小松正志有點巴不得新芯是真的突破了，也就是說那種可以用在大規模生產上有良品率保障的突破，而別是實驗室突破。

    因為新芯攻克了40nm工藝製程，意味着euva會獲得更多的資源支持，小松株式會社作為其中唯一的光源製造商，自然也會獲得更多的資源扶持。

    至於新芯在光刻機市場上徹底擊敗霓虹，小松正志從來沒有想過這種可能性，在他看來這是不可能的事情。

    不過後世asml能夠藉助技術優勢幾乎在短短三年時間內徹底實現逆轉，打的尼康和佳能永世不得翻身，這完全不是市場化行為，而是asml背後的阿美利肯資本主導下的行為。

    為什麼這麼說，因為在asml靠着浸潤法率先攻克40nm的工藝製程並獲得英特爾的生產驗證後，他們召開了光刻未來技術研討會，會上邀請了10家主要的晶片製造廠商，也就是他們的主要客戶。

    會上，asml表示他們已經藉助浸潤法成功攻克了那道門檻，也就是卡住晶片工藝繼續發展的門檻，希望大家支持浸潤法光刻機作為未來唯一的技術路線，說白了就是只支持asml。

    在場10家晶片製造廠商里有6家技術代表你們的浸潤法光刻機沒問題，但是我們也希望讓157nm乾式光刻機繼續發展作為備份的技術路線，因為這樣一旦浸潤式光刻機技術路線遇到阻礙，我們還有第二個選項。

    這是非常合理的要求，站在當時那個視角來看，沒人能保證浸潤式絕對沒有問題，工藝製程的發展能夠一馬平川，毫無阻礙。

    結果就是asml在該會議上痛批這幫晶片製造廠商的技術代表們沒有遠見，觀點的參考價值極其有限。

    asml組織了這次技術研討會，研討會後卻完全沒有用會議的討論結果，在背後資本主導下，尼康和佳能的157nm乾式光刻機失去了整個西方資本主導下晶片代工的市場。

    小松正志和他的小松株式會社也在這過程中消失在行業內，再也沒有了任何消息。

    「大概率是用的浸潤法，也就是在鏡頭和矽片之間加液體，他們光刻機條線的負責人是林本堅博士，他一直堅持浸潤法是半導體工藝突破的關鍵。

    只是不知道他們是如何繞過浸潤法的困難。」佐藤博人說，他是euva在御殿場市的研發團隊的負責人。

    在光刻機失利後，佐藤博人同樣經歷了很長一段時間的失落和沉寂，和小松正志比起來，他最後還是走出來了，甚至換了個研究方向重新活躍在學術界。

    此時意氣風發指點新芯光刻機技術的他們，不會知道這個未來對霓虹的光刻機產業只會更加殘酷。

    尼康和佳能這次連殘羹冷炙都吃不到了。

    「我也好奇，因為新芯最早是買的我們的光刻機