，基本上都把接觸時把光給淘汰了。

    至於投影式曝光，一般都是更高級的euv光刻機上才能使用的。

    對於的duv光刻機，沒有必要使用投影式曝光，我們現在使用的僅僅是接近式曝光，矽晶圓片和掩模版彼此之間的距離非常小，這一段距離大約保持的260um之下，以我們的肉眼是看不見的，必須用高倍的放大鏡才可以看見。

    投影式曝光非常的複雜，只不過基本上分為三種：掃描步進投影曝光。不僅重複投影曝光。掃描投影曝光。

    毫無疑問，這三種方法，對於技術和製造能力來說，都要求非常非常高，幾乎到了變態的程度。

    「就算是我想要製造出來euv光刻機，那也需要花費很長的時間，更別說別人了。」

    asml生產出來的高級光刻機就是用的投影式曝光，它們的產量也不高，一年也就能生產出來30部euv光刻機。

    可以說製造出來光刻機是一件非常不容易的事情，我們甚至可以說光刻機是這個世界上最精密的設備，最起碼在現在這個階段，光刻機是最精密的儀器。

    製造光刻機的在很大程度上都能反映出一個國家的工業水平到底處於什麼階段。

    一個光刻機他上邊的零部件超過10萬個，線路有3000條，螺栓4萬個，軟管長度超過兩公里，此外，還有190多個傳感器，包含16個分系統。

    那麼多零補角組合在一起，形成了一個光刻機。設備上的所有零部件之間相互配合，不能出現一個問題。

    如果一個小零件出現問題，就能導致整個機器不能正常運轉，就連一個小螺栓都不能出現問題。

    可以毫不誇張的說，牽一髮而動全身。

    千萬不要小看一個螺栓，它可能就能影響整個機器的運行，可以說只要安裝在光刻機上邊的零部件那就是重要零部件。

    「對了，asml公司1年能生產接近生產30台，要是我們馬力開，全開一年能生產出來多少台光刻機？」張星辰問道。

    對於這個問題張星辰還是很好奇的。測試廣告2