測試廣告1    我們完全可以想像一下三十萬平方公里是多麼的大。隨夢小說網 www.suimeng.co

    島國的面積只不過三十七點八平方公里。

    相當於島國這麼大，我們的國家呢，大約是九百六十萬平方公里，相當於我們國土面積的3％了。

    這個面積不可謂不大，但是這麼大的面積僅僅誤差一米，這是多麼令人恐怖的一件事情啊。

    這還僅僅是duv光刻機，就有這樣的精密度，要是換作更高級的euv光刻機呢。

    那精密度更高！

    還是拿着三十萬平方公里計算，那麼誤差不會超過十厘米。

    「十厘米……」張星辰眼睛放着奇異的光芒，小白也不知道張星辰在想什麼。

    目前為止，在我們星球上只有德意志戰車的斯克爾公司可以做到這一步。

    就算是風車國的asml公司也是採購的這一家公司打磨的鏡片。

    「我們這一次製造出來的光刻機，一共有着三個平台，這三個平台分別用來盛放掩膜，矽晶圓片還有成品。」

    放置成品的目的其實就是為了對晶片進行測試，檢驗一下晶片是否符合要求。

    和最後一個平台相比，前兩個平台無疑要重要許多。

    這兩種平台的運動方式有着兩種方式，第一種就是相對靜止的。

    相對靜止模式的光刻機這樣可以使得光線可以一下子就鐫刻好晶片的線路圖，速度相對來說是快一些，，但是這樣的話相當於直接拓印了。

    這就導致了光線容易飛散，很大程度上影響了成品率。

    第二種模式就是光線跟着放置眼膜的平台一起運動，這樣的話光線集中，鐫刻出來的線路圖清晰，誤差小，自然的成品率就會提高。

    「不過對於機械的精密度要求非常高，我們製造出來的duv光刻機已經可以把誤差控制在十納米之內了，對於製造45納米的晶片而已來說已經可以了，已經可以滿足要求，沒有必要使用第二種模式。」

    「如果使用euv光刻機，那麼對於誤差的要求會更加嚴格，必須要保證在兩納米之內。」

    除此之外，這裏有一點需要說明，兩個工作枱在運動時候初速度的加速度非常快，甚至可以和發射炮彈出去時候的加速度相媲美。

    而且製造晶片的時候，光刻機必須處於恆溫狀態，對於溫度要求非常嚴格，在工作狀態的時候，溫度的誤差不能超過千分之一。

    「我們製造了這一款duv光刻機，這兩個平面是靜止的這樣製造起來更容易，也同樣也是可以滿足要求。」

    掩模和矽晶圓片的相對位置這裏也有三種，第一種是相互接觸；第二種是他們兩個的位置非常接近，但是並不接觸；第三種就是距離相對較遠，相當於投影。

    也就是接觸式曝光。接近式曝光、投影式曝光這三種。

    其中效果最好的是投影式曝光，最差的就是接觸式曝光。

    「我們選擇中間的接近式曝光，因為duv光刻機沒有必要用最好的，這樣大大提高了難度和成本，以及功能富足。」

    關於接觸式的曝光其實非常複雜的，不過總體上可以分為三種，一種是真空接觸，一種是硬接觸，一種是軟接觸。

    雖然名字不一樣，但是後面兩個字是不會錯的，那都是接觸。

    因為掩模和矽晶圓片相互接觸了，那麼他們之間肯定會相互摩擦，這樣不僅對矽晶圓片上面的光刻膠產生影響，而且還會影響掩模的精密度，影響掩模上面的線路圖。

    因為掩膜版，它是需要重複使用的，但這樣每一次使用都和矽晶圓片相互接觸，那麼久而久之模版就會傷害上面的線路。線路圖就會越來越模糊，甚至出現缺陷，也就使的掩模的破損率大大增加。

    在使用一段時間之後，掩膜版就不能使用了。

    這樣接觸式曝光就有一個嚴重的缺點，這樣的缺點導致接觸式曝光漸漸被淘汰了。

    說出來很可惜，我們國家現在生產出來的光刻機，基本上都是接觸式曝光，因為接觸式曝光的技術和製造都相對來說簡單，製造起來相對來說比較容易。

    但是外國呢